光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、 X射線等照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。光刻膠目前被廣泛用於光電信息產業的微細圖形線路加工製作, 約占IC製造材料總成本的4%,是重要的半導體材料。
從光刻膠的基本構成、下遊應用、發展曆程和行業格局等多方麵還原這種重要的半導體材料的現狀。
光刻膠是半導體產業中最重要的材料之一,一般由由感光樹脂(聚合劑)、增感劑(光引發劑)、溶劑與助劑構成。
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